设备用途：
主要用于纳米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等的研究 开发。广泛应用于半导体行业、微电子及新材料领域。

设备特性：
设备采用FB-1500型分子泵真空系统。为了尽量减少污染，降低压力，增强耐腐蚀能力，整个系统全部采用不锈钢 （SUS 304）材料
控靶是该设备沉积膜的关键部件。磁控靶性能特点：靶材利用率高，沉积速率可达（对Al）30A/s
工作压力范围宽：0.2Pa～4Pa内磁控靶可以稳定工作。电压工作范围在300伏～1000伏之间
备配备：a)基片旋转（自/公转）；b)膜厚监控仪 c)质量流量计。

设备主要技术参数:
极限真空压力（Pa） 7×10-6Pa(溅射室) 6.6×10-4Pa(进样室)
靶直径（mm） Φ50
靶单位面积功率（W/cm2） 20
靶电源功率（W） DC1000 RF500
基片加热温度（oC） 室温～400
恢复真空时间 5X10-3Pa≤30分钟
基片沉积速率（nm/s） 3（Al）
气体流量(slm) 0～200
样品尺寸: Φ40， Φ75

想了解更多资料，敬请浏览我们的网页 www.mikrouna.com
联系电话：010-68588245
E-mail：sales@mikrouna.com

　　通过技术的革新和进步为社会的发展服务，是我公司始终如一的经营理念。

　　顾客至上，诚实守信是我们的行为准则。精良的产品，优质的服务，满足用户的需求是我们最大的追求和动力，也是我公司立业之本。米开罗那始终秉承锐意创新，振兴国家科技的精神，为国内众多大中院校，科研院所，高新技术企业以及世界各地用户提供满意的产品及服务。